Carbure de Silicium CVD pour Applications Optiques

Authors: Michael A. Pickering, Raymond L. Taylor, Joseph T. Keeley of Morton International, George A. Graves of University of Dayton Research Institute

Résumé

Dans cet article, nous présentons les propriétés physiques, thermiques, mécaniques et optiques importantes du carbure de silicium cubique produit par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) massif développé chez CVD Incorporated. Ce SiC CVD a été identifié comme le matériau de miroir de premier plan pour le rayonnement synchrotron haute énergie en raison de sa conductivité thermique élevée, de sa faible dilatation thermique, de sa haute aptitude au polissage et de sa haute réflectance dans l’UV sous vide. Cependant, il a été difficile d’obtenir des miroirs en SiC CVD de haute qualité, monolithiques en grandes dimensions, c’est-à-dire supérieures à 10-20 cm. Récemment, CVD Incorporated a réussi à faire évoluer un procédé CVD de SiC pour produire de grandes pièces monolithiques de SiC jusqu’à 60 cm (24 po.) de diamètre et des plaques jusqu’à 76 cm (30 po.) de long par 46 cm (18 po.) de large avec des épaisseurs allant jusqu’à 13 mm (0,5 po.). Les propriétés de ce matériau qui peuvent le rendre attractif pour les applications optiques, telles que l’optique synchrotron, sont discutées.